Dieses Verfahren ist zukunftssicher, nicht reguliert und zeichnet sich durch eine niedrige Toxizität aus. Es kann in den heute bestehenden Prozess der Tiefdruckformherstellung nahtlos integriert werden.

Der Energiebedarf von HelioChrome^® NEO ist mit 20 A/dm² bei 40 °C erfreulich gering. Die im Vergleich zur klassischen Verchromung um 20 Grad niedrigere Badtemperatur führt darüber hinaus zu geringeren Emissionen. Zurzeit lassen sich bis zu 25 µm dicke Chrom(III)-Schichten erzeugen. Der Aufbau einer im Tiefdruck üblichen 6 bis 8 µm dicken Schicht dauert rund 20 bis 25 Minuten und ist somit ähnlich schnell wie die Chrom(VI)-Beschichtung.

Die ersten realen Druckaufträge mit HelioChrome^® NEO-Beschichtungen wurden bereits erfolgreich auf den Tiefdruckmaschinen bei Huhtamaki in Ronsberg mit der neuen Technologie produziert. Aktuell gilt es noch, die Produktionssicherheit der Elektrolytführung und die Qualitätssicherung für den industriellen Prozess zu etablieren.

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HelioChrome^® NEO Oberfläche

HelioChrome^® NEO Querschliff